離子濺射儀（磁控）庫號：M363284

簡要描述：離子濺射儀（磁控）庫號：M363284
此款小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護樣品。

產品型號： M-363284

所屬分類：儀

更新時間：2025-09-26

廠商性質：生產廠家

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詳情介紹

離子濺射儀（磁控）庫號：M363284離子濺射儀（磁控）庫號：M363284

此款小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護樣品。

主要特點:
顯示操作面為30°斜面，考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；
真空泵連接管路為金屬波紋管；
微調閥調節(jié)，帶有刻度標識；
真空泵抽速快，適合實驗室使用；
控制電路為控制板；
顯示控制操作部分，位于同側；
磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護樣品；

技術參數:
1.樣品室空間：直徑150mm×高120mm
2. 可配Pt靶（另購），靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.真空控制電路設計，實現(xiàn)真空度和濺射電流，互鎖，可調電流40mA；
4.侵入式磁控低溫離子源，可換靶材，環(huán)繞暗區(qū)護罩；
5.使用計|時控制器，可調設置范圍:1-500秒，連續(xù)可調
6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控制
7.真空泵，抽速8.5m3/h，可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統(tǒng)
8.微型真空氣閥：微量流量閥，精度±0.1Pa

技術參數:
1.樣品室空間：直徑150mm×高120mm
2. 可配Pt靶（另購），靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.真空控制電路設計，實現(xiàn)真空度和濺射電流，互鎖，可調電流40mA；
4.侵入式磁控低溫離子源，可換靶材，環(huán)繞暗區(qū)護罩；
5.使用計|時控制器，可調設置范圍:1-500秒，連續(xù)可調
6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控制
7.真空泵，抽速8.5m3/h，可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統(tǒng)
8.微型真空氣閥：微量流量閥，精度±0.1Pa

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